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光刻膠高溫固化烤箱,半導體高溫烤箱

光刻膠高溫固化烤箱,半導體高溫烤箱

簡要描述:

光刻膠高溫固化烤箱,半導體高溫烤箱適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè)。應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán),經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器(100級)反復過濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。無塵烤箱工作室為不銹鋼結構。

 光刻膠高溫固化烤箱,半導體高溫烤箱應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán),經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器(100級)反復過濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。無塵烤箱工作室為不銹鋼結構。適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè)。

光刻膠高溫固化烤箱,半導體高溫烤箱主要特點如下:
1.采用特制耐高溫長軸型馬達及強力多翼式風葉,強力吸風式機構使得均勻分布溫度,安靜低噪音,節(jié)約能源;

2.箱體選用全陶瓷纖維保溫,具有升溫快、節(jié)能等特點;
3.吸風口玻纖過濾器,確保潔凈度的要求。

滿足標準:

1.11158-1989高溫試驗箱技術條件

2.2423.2-1989試驗B

基本配置:
1. 溫度范圍:RT~450℃;

2. 內(nèi)箱尺寸:800×600×600mm(W×H×D)、700*500*500(可選);

3. 箱體數(shù):2個,上下布置,可定做;

4. 內(nèi)膽材質:SUS321鏡面不銹鋼,無縫焊接保護被加工件不受任何污染;
5. 升溫時間(空載):1.5h;

6. 降溫時間(空載):300℃-50℃降溫時間1.5-3.5小時(采用水冷翅片散熱器);

7. 加熱器:特制無塵加熱器;

8. 溫度和氧含量記錄:進口無紙記錄儀;

9.標準配件高效99.97%(0.3 μ )微粒空氣過濾器、微差壓力劑、計時器、可調隔層板、單段式溫度控制器

氧含量:
1. 高溫狀態(tài)氧含量:≤ 10ppm +氣源氧含量;

2. 低溫狀態(tài)氧含量:≤ 20ppm +氣源氧含量

3. 控溫穩(wěn)定度:±1℃;溫度均勻度:±10℃(400℃平臺);

輸出控制:
1. 配置PLC,可實現(xiàn)多事件輸出控制氣氛、水等開關和報警;

2. 控制:上下爐腔可單獨控溫、通氣、報警保護;

3. 控溫儀表:日本島電FP93溫控儀;

4. 控溫段數(shù):4×10段;控溫點數(shù):2點;

5. 超溫報警點數(shù):2點;檢測點數(shù):2點;

6. 報警保護:超溫、斷偶等聲光報警保護;超溫保護:獨立感溫式超溫保護器;電機保護:電機過電流、水冷保護; 表面

   溫升:<30℃;

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