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快速熱處理退火爐，半導體RTP快速退火爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火，硅化物形成，歐姆接觸制備以及快速氧化，快速氮化等方面。該設(shè)備具有很好的長時間工作穩(wěn)定性以及快速升降溫，慢速升降溫功能

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