半導(dǎo)體烤箱,wafer烤箱于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
半導(dǎo)體烤箱,wafer烤箱用途:
半導(dǎo)體烤箱,wafer烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
特點(diǎn):
1.烤箱具有升溫快,溫度過沖小,節(jié)能等優(yōu)點(diǎn);
2.全周氬焊,耐高溫硅膠破緊,SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器,防機(jī)臺(tái)本身所產(chǎn)生微塵;
3.采用環(huán)抱式熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng),風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器,將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部,且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱,省電節(jié)能溫度均勻性好;
4.強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)方式。雙風(fēng)道循環(huán)結(jié)構(gòu),溫度場(chǎng)分布均勻,智能P.I.D溫控系統(tǒng),得到精密溫度控制精度。
產(chǎn)品技術(shù)參數(shù):
溫度范圍:RT+10~250℃;
溫度均勻度:±2℃;
溫度波動(dòng)度:±0.5℃
溫控精度:±0.1℃;
工作室尺寸:W600×D550×H600(mm)
電源:220v , 50Hz,3.0KW
網(wǎng)板:2塊(高度可調(diào)節(jié))