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六甲基二硅胺烷HMDS涂膠烤箱,HMDS真空烘箱

六甲基二硅胺烷HMDS涂膠烤箱,HMDS真空烘箱

簡要描述:

六甲基二硅胺烷HMDS涂膠烤箱,HMDS真空烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠

 

【詳細說明】

六甲基二硅胺烷HMDS涂膠烤箱,HMDS真空烘箱技術參數(shù):

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2200W

溫度范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動度:±0.5℃

達到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450(可定做)

有可自動吸取添加HMDS功能智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)

六甲基二硅胺烷HMDS涂膠烤箱,HMDS真空烘箱特點:

1、預處理性能更好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有著更好的處理效果。

2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達4盒的晶片。

4、更加節(jié)省藥液,實踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;

5、更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學藥品,人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機,所以也不會對環(huán)境造成污染。    

6、低液報警裝置,當HMDS液過低時發(fā)出報警及及時切斷工作起動功能;HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。

7、可自動吸取HMDS功能,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。

8、可自動添加HMDS功能,智能型程式設定,將HMDS藥液定量添加至設備自帶儲液瓶中,無需人工添加,降低了工作人員和藥液接觸的幾率。

 

六甲基二硅胺烷HMDS涂膠烤箱,HMDS真空烘箱的原理:      

    HMDS預處理系統(tǒng)通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

的必要性:

    在半導體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。

結構:

整個系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等5部分組成

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