HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對(duì)晶圓表面進(jìn)行底漆處理,從而改善光刻膠的附著力。
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對(duì)晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。
HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱適用行業(yè):MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中,通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋”甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善,這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤,再進(jìn)行HMDS處理,不需要從箱內(nèi)傳出,而接觸到空氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有更好的處理效果。
智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。