HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)用途
使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)應(yīng)用行業(yè)
MEMS系統(tǒng)
CVD薄膜;
光刻
用于光刻膠附著力的 HMDS
作為聚合物和基材之間的粘合層
作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層;
噴墨
防止墨水積聚在噴嘴面板上,確保墨水流動不受限制;
生物MEMS
親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性,或防止蛋白質(zhì)吸收,或減少器件性能的“漂移"
微陣列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白質(zhì)、抗體、組織;
光學(xué)和 AR/VR 應(yīng)用
修改光學(xué)特性
創(chuàng)建納米壓印層或鈍化層;
圖像反轉(zhuǎn)
金屬剝離工藝,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝;
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)技術(shù)性能
材質(zhì):內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼
工藝溫度:100-150℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:≤±0.5
真空度:≤133pa(1torr)
操作界面:人機(jī)界面,一鍵作業(yè)
層數(shù):2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
圖像處理:圖像反轉(zhuǎn)
真空泵: 進(jìn)口無油泵
保護(hù)裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報&警提示,HMDS低液位報&警,超溫保護(hù),漏電保護(hù),過熱保護(hù)等