刻蝕機，半導體刻蝕臺簡介：

       濕法腐蝕和濕法清洗在很早以前就已在半導體生產上被廣泛接受和使用，許多濕法工藝顯示了其*的性能。硅片清洗也顯得尤為重要.濕法腐蝕是一種半導體生產中實現(xiàn)圖形轉移的工藝,由于其高產出,低成本,高可靠性以及有很高的選擇比仍被廣泛應用. 
刻蝕機，半導體刻蝕臺用途：
　　清洗、顯影、腐蝕、自動氫fu酸清洗臺、去膠臺等，該系列設備主機選用進口磁白PP防腐材料，結構美觀，潔凈度高。可選配QDR清洗槽、三級清洗槽、超聲清洗槽以及石英、NPP、PTFE、PVDF、316不銹鋼等材質的槽體。可提供適用于2-12英寸晶片的濕法工作，是半導體制作工藝的理想設備。清洗機有自動、手動系列產品。用于半導體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的設備。